誠南工業株式会社は真空装置の設計製作を行っております。

・本装置は、単結晶の金属酸化膜を作成する為の高真空成膜装置です。  
・成膜室を大気に暴露することなく試料交換可能なロードロック方式となっております。
・ターゲットから基板表面までの距離を一定に維持しつつ、成膜速度を確保できます。
・デポアップ（基板表面下向き）の成膜装置です 。
・膜中への不純物混入を抑制するため、成膜室は超高真空対応です。
・本装置で装備しているスパッタカソードは、ＲＦ式であり、最大で４基まで搭載可能です。
・研究内容、ご使用の状況に合わせて、設計製作いたします。

・成膜室
・試料交換室
・ゲートバルブ(成膜室-試料交換間)
・基板加熱駆動機構
・スパッタ源
・成膜室用真空計
・試料交換用真空計
・成膜室用排気系
・基板搬送機構
・ガス導入系
・N₂パージライン
・架台
・制御システム

・タッチパネルによる遠隔操作
・パイロメータ
・逆スパッタ機構
・スパッタ源上下駆動機構

成膜室　到達真空度：1×10^-6Pa以下
　　　　表面処理：電解研磨(内面鏡面研磨後)
　　　　排気系：ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ
　　　　　　　　補助バルブ、排気配管部品
試料交換室　到達真空度：1×10^-4Pa以下
　　　　表面処理：電解研磨(内面鏡面研磨後)
　　　　排気系：ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ
　　　　　　　　補助バルブ、排気配管部品
スパッタ源　φ2,3,4インチ対応