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誠南工業株式会社は真空装置の設計製作を行っております。

〒559-0011 大阪市住之江区北加賀屋4丁目3番24号
TEL:
06-6682-6788 FAX:06-6682-6750 E-mail:info@seinan-ind.co.jp
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薄膜形成装置一覧EQUIPMENT LIST

薄膜形成装置 一覧

 スパッタ装置
スパッタリング装置
単結晶の金属酸化膜を作成する為の高真空成膜装置です。
・多元スパッタリング装置・簡易スパッタ装置 ・マグネトロンスパッタ装置 ・ICPスパッタ装置
 有機デバイス製作装置
有機デバイス製作装置
有機蒸着室、金属蒸着室、ロードロック室で構成された有機電子デバイス作成装置です。
 物理特性測定装置PPMS Versa Lab free
レーザーアブレーション装置
無冷媒型の小型物性測定装置で、温度範囲50-400k、最大印加磁場3T、従来のPPMSと同様な各種物性の自動測定が可能です。
  多層膜形成装置
マルチ蒸着システム装置
EB蒸着室、通電加熱蒸着室、ロードロック室、グローブ
ボックス等により構成されている薄膜形成装置です。
 熱CVD装置
熱CVD装置
化学反応により膜を堆積する方法を利用したCVD装置です。
 EB蒸着装置
電子ビーム蒸着装置(EB蒸着装置)
チャンバーサイズ及び、ポート数、フランジ規格、表面処理、排気系等はご所望にあわせ作製が可能です。電子銃は最大6種類の試料充填が可能です。各種装置への接続が可能です。

誠南工業株式会社

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