誠南工業株式会社は真空装置の設計製作を行っております。

・電子顕微鏡を基本体にしており、観察と微細加工を両立した、電子線描画装置です。
・シリコンウェハなど各種ウェハに直接描画をするため、フォトマスクを使わずに
　微細加工を行います。

加速電圧　　　　　　1~30kV(SEM基本仕様による
試料サイズ　　　　　最大2インチ(SEM基本仕様による)
最小線幅　　　　　　0.1um
ステージ構成　　　　X-Y 2軸自動　Z軸手動(自動：オプション)
ステージ構成　　　　繰り返し位置決め±0.1um
ステージ位置検出　　リニアエンコーダ0.01um
特徴　　　　　　　　観察機能との併用
　　　　　　　　　　GUI/CAD標準装備

・ショットキーエミッション方式の電子銃です。
・フィラメントの寿命も長く、長時間安定した電流照射が可能で、高解像度を実現します。
・この電子銃を使って、微細加工装置、分析装置の構築が可能です。

エミッター　　　　ZrO/W
加速電圧　　　　　1~15kV(連続可変)
倍率　　　　　　　×50~×500,000
試料サイズ　　　　最大4インチ
最小線幅　　　　　0.1um
ステージ構成　　　X-Y自動
ステージ制度　　　繰り返し位置決め　±0.1um
ステージ位置検出　リニアエンコーダ　0.01um
排気系　　　　　　ドライ排気系